Formations pour chimistes

Gérer des situations difficiles et des conflits | OCQ

Optimisez votre climat de travail ! Apprenez à gérer efficacement un processus de résolution des problèmes.

Description 

Optimisez votre climat de travail ! Apprenez à gérer efficacement un processus de résolution des problèmes.

Compétence visée

Cette formation vous fournira les outils nécessaires pour appliquer un processus de gestion de situations difficiles et de conflits interpersonnels.


Éléments de compétence 

  • Distinguer les situations difficiles qui impliquent des employés
  • Situer son rôle de gestion vis-à-vis une personnalité difficile et un conflit interpersonnel
  • Analyser les attitudes et les comportements d’une personnalité difficile
  • Se conformer aux aspects légaux qui régissent la gestion des situations difficiles
  • Adapter ses méthodes de gestion pour engendrer des changements positifs
  • Utiliser une approche de suivi appropriée à la problématique identifiée
  • Détecter les comportements conflictuels
  • Connaître les types et les sources de conflits
  • Prévenir et résoudre un conflit
     

Plan de cours

 

Public cible 

Gestionnaires, coordonnateurs, superviseurs, chefs d’équipes, conseillers et professionnels.

Ce cours ne s’adresse pas aux personnes qui sont inscrites ou qui ont terminé le programme Gestionnaire de premier niveau offert par CoeffiScience



Type de formation : En classe
Endroit : CRIM - 405, avenue Ogilvy, Bureau 101, Montréal, QC H3N 1M3
Information supplémentaire : Pour plus d'informations, communiquez avec Yeslay Matos au 514 251-6302, poste 234

Le 9 novembre 2018
De 08h30 à 16h30

CRIM|Centre de recherche informatique de Montréal
405 Avenue Ogilvy bureau 101
Montréal QC H3N 1M3

Contact : Coeffiscience
Téléphone : 514 251-6302
Courriel : info@coeffiscience.ca

Catégorie : Formations pour chimistes
# gérer, # gestionnaires, #chimiste, #Gestion

Inscription 325,00 $

Places disponibles: 13

© 2018 Coeffiscience. Tous droits réservés. Conception & réalisation du site par HPJ.